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半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)超純水水質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)要求

更新日期：2019年3月19日大字小字

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在半導(dǎo)體加工過(guò)程中需要使用水進(jìn)行處理，該水質(zhì)的要求非常高，不能含有任何離子雜質(zhì)。半導(dǎo)體行業(yè)用超純水設(shè)備采用先進(jìn)的制水技術(shù)，有效去除水中雜質(zhì)，保證設(shè)備的出水水質(zhì)。半導(dǎo)體超純水設(shè)備用水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)半導(dǎo)體超純水設(shè)備是應(yīng)用于半導(dǎo)體生產(chǎn)零件清洗的超純水設(shè)備,需要符合特定的用水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn),下面詳細(xì)介紹半導(dǎo)體行業(yè)超純水水質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)要求和超純水設(shè)備制備工藝及應(yīng)用：

半導(dǎo)體超純水設(shè)備水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)要求:

半導(dǎo)體超純水設(shè)備出水水質(zhì)要符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我國(guó)電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

半導(dǎo)體超純水設(shè)備制備工藝:

1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)

2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)(新工藝)

3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥17MΩ.CM)(新工藝)

4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥15MΩ.CM)(新工藝)

5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)

半導(dǎo)體超純水設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域:

1.電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗。

2.電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水。

3.黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水。

4.生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液。

5.晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片。

6.集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片。

7.半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水。

8.半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗。高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)。

9.汽車、家電表面拋光處理。

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